退火爐溫控件的研究分析


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摘要:退火爐溫控件對整個退火設備的工藝直到決定作用,是值得研究分析的

       退火爐溫控件對整個退火設備的工藝直到決定作用,是值得研究分析的。硅片作為退火爐溫控件的重要部件,它表面溫度邊緣效應的因素,提出燈管分區及分區控制的設計方案,實現硅片表面溫度的均勻性;通過非接觸式溫度測量原理的分析,完成光學高溫計選型、測溫方案以及溫度校準設計,實現溫度的測量,基于系統模型的溫度控制器設計保證了溫度控制的精度與穩定度;在分析硅片傳送功能性要求的基礎上,完成傳送系統流程設計,實現了系統傳片效率與傳片的高可靠性;控制系統功能性設計、總體架構以及主控制程序流程圖設計實現整機的全自動化,保證系統具有自動化水平高、控制和管理功能強大、操作簡便、可靠性高等特點,能很好地適應快速退火爐系統對自動控制的要求。

澳门金太阳       退火設備是近代大規模集成通路生產工藝內中中的重要設備。重要用來離子注入后雜質的激活、淺結制作、成長高品質的氧化膜層和非金屬硅化物合金構成等工藝。隨著集成通路工藝技能的飛速停滯,發展快捷退火爐零碎的技能鉆研,對海內開發和鉆研存在自主常識產權的快捷退火爐設備,有著非常不足道的實踐意思和工事利用價格。

澳门金太阳    公司對準現代半超導體器件退火工藝對快捷退火爐零碎的技能務求,在綜合綜合海內外各族快捷退火滬零碎技能根底上,經過深刻的綜合鉆研,設計了零碎總體技能計劃。擬定采納燈火輻射型熱源安裝,高低兩排成正交的燈管組對坐落其旁邊的半超導體硅片繼續間接加熱兌現熱度的快捷回升,以單點測溫作為熱度測量的克服計劃作為零碎總體計劃.依據熱傳播根本實踐,以兌現零碎總體技能指標作為己知參數劃算失去零碎所須要的熱功率,在此根底上兌現熱源與反響腔體、結冰零碎、噓氣零碎等元件的設計。

       經過綜合莫須有硅片名義熱度邊緣效應的成分,提出燈管分區及分區掌握的設計計劃,兌現硅片名義熱度的勻稱性;經過非接觸式熱度測量原理的綜合,實現光學低溫計選型、測溫計劃以及熱度校準設計,兌現熱度的測量,基于零碎模子的熱度掌握器設計保障了熱度掌握的精度與穩固度;在綜合硅片傳遞性能性務求的根底上,實現傳遞零碎流程設計,兌現了零碎傳片效率與傳片的高牢靠性;掌握零碎性能性設計、總體架構以及主掌握程序流程圖設計兌現整機的全主動化,保障零碎存在主動化程度高、掌握和治理性能壯大、操作簡便、牢靠性低等特點,能很好地相配快捷退火爐零碎對主動掌握的務求。


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